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升降式曝光机行业加快技术更新步伐
点击次数:82 发布时间:2019-09-19
   升降式曝光机行业加快技术更新步伐
  升降式曝光机是集电子光学,电气,机械,真空,计算机技术等于一体的复杂的半导体加工设备,适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光,应用于半导体制造,光电电子,平板,射频微波,衍射光学,微机电系统,凹凸或复晶设备和其他要求精细印制和精度对准的应用。
  升降式曝光机通过开启灯光发出UVA波长的紫外线,将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的设备,一般根据操作的简便性分为三种,手动,半自动,全自动。A  手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和角度来完成对准,对准精度可想而知不高了;B 半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐;C 自动: 指的是从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,主要是满足工厂对于处理量的需要。
  升降式曝光机支持基片的尺寸范围,分辨率,对准精度,曝光方式,光源波长,光强均匀性,生产效率等,分辨率是对曝光工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式,曝光的分辨 率受受光源衍射的限制,所以与光源,光刻系统,光刻胶和工艺等各方面的限制。升降式曝光机对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度,曝光方式分为接触接近式,投影式和直写式,曝光光源波长分为紫外,深紫外和极紫外区域,光源有汞灯,准分子激光器等。
  在计算机的控制下,升降式曝光机利用聚焦电子束对有机聚合物(通常称为电子抗蚀剂或光刻胶)进行曝光,受电子束辐照后的光刻胶,其物理化学性质发生变化,在一定的溶剂中形成良溶或非良溶区域,从而在抗蚀剂上形成精细图形。升降式曝光机广泛应用于半导体,微电子,生物器件和纳米科技领,适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光。
  在计算机的控制下,利用聚焦电子束对有机聚合物(通常称为电子抗蚀剂或光刻胶)进行曝光,受电子束辐照后的光刻胶,其物理化学性质发生变化,在一定的溶剂中形成良溶或非良溶区域,从而在抗蚀剂上形成精细图形。升降式曝光机可自动抽气,自动曝光,自动计时,可连续晒网版,用于晒印PS版,PNA版,不锈钢版等各种板材的自动感光晒版设备。
  升降式曝光机操作简便,光源采用快启动型高功率紫外线灯管,光强稳定均匀,紫外线光谱分布与印版的特性相吻合,辅以性能稳定的真空压缩机系统,真空吸附,有效保证了晒版速度,网版清晰。

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